隨著(zhù)市場(chǎng)需求的變化，中高端靶材成為鍍膜行業(yè)必不可缺的部分，近年國內的靶材行業(yè)發(fā)展迅速，靶材供應商紛紛加大研發(fā)和投入，廣東的靶材供應商發(fā)展勢頭強勁，中高端的靶材制造商在廣州實(shí)現量產(chǎn)。靶材產(chǎn)品的種類(lèi)也越來(lái)越豐富 ：銀（Ag）靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻（NiCr）靶、鋅錫（ZnSn）靶、硅鋁（SiAl）靶、氧化鈦（TixOy）靶，鎳鉻靶等。     靶材在玻璃上的另一個(gè)重要應用是制備汽車(chē)后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。由于汽車(chē)后視鏡檔次要求的不斷提高，這些企業(yè)紛紛從原來(lái)的鍍鋁工藝轉成真空濺射鍍鉻工藝。      伴隨著(zhù)電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源極。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎材料，已得到空前的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規模日益膨脹。國內的陶瓷平面靶材主要采用燒結及綁定工藝，可生產(chǎn)較好長(cháng)度600mm，較好寬度400mmm，較好厚度30mm，圓角、斜邊、臺階等異形根據客戶(hù)要求加工。     陶瓷靶材的特性要求：     （1）純度：陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大，純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。幾年來(lái)，隨著(zhù)微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對成膜面積的薄膜均勻性要求十分嚴格，其純度必須大于4N。平面顯示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的純度都大于4N。     （2）密度：為了減少陶瓷靶材的氣孔，提高薄膜性能，要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實(shí)，濺射顆粒的密度月底，放電現場(chǎng)就越弱，薄膜的性能也越好。     （3）成分與結構均勻性：為保證濺射薄膜均勻，尤特在復雜的大面積鍍膜應用中，必須做到靶材成分與結構均勻性好。     相信在不久的將來(lái)，國內會(huì )有更多的靶材供應商，向國外中高端靶材市場(chǎng)發(fā)起一波強而有力的沖擊。 靶材的密實(shí)度也對鍍膜過(guò)程及膜層的性能有著(zhù)重要的影響，靶材的密實(shí)度不僅影響濺射時(shí)的沉積速率、濺射膜粒子的密度和放電現象等，還影響著(zhù)濺射薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材越密實(shí)，濺射膜粒子的密越低，放電現象越弱，而薄膜的性能也越好。高純?yōu)R射靶材主要是指純度為99.9%-99.9999%(3N-6N之間)的金屬或非金屬靶材，應用于電子元器件制造的物理-氣象沉積(PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。。自19世紀中期至今，濺射鍍膜技術(shù)經(jīng)歷了170年的沉淀與發(fā)展逐步走向成熟。濺射鍍膜技術(shù)起源于國外，所需要的濺射材料——靶材也起源發(fā)展于國外。1842年格波夫在實(shí)驗室中發(fā)現了陰極濺射現象。