采用大型平面靶技術(shù)，可以在玻璃上面鍍制單質(zhì)金屬膜、復合膜、電磁屏蔽膜、ITO膜，可以根據需要配置多個(gè)真空室，每個(gè)真空室根據需要配置不同的靶材，室與室之間采用獨立的真空抽氣系統，可以隨意調節各個(gè)真空室的氣體參數，鍍制不同的膜層，可以滿(mǎn)足工業(yè)化連續生產(chǎn)的需要。廣泛應用于玻璃、PMMA、電子屏蔽等各種鍍膜領(lǐng)域。 技術(shù)參數： 鍍膜產(chǎn)品較大尺寸：1200*2400等規格，可根據客戶(hù)的具體需求設計而設計制造。 夾具方式：連續式平面移動(dòng)方式。 各個(gè)機型均可選擇手動(dòng)、自動(dòng)控制系統。