概述：本設備適用于半導體工藝中對硅片周邊進(jìn)行濕法化學(xué)腐蝕形成均勻一致的斜角，本設備技術(shù)先進(jìn)，適用于規模生產(chǎn)。設備是由電氣控制，機架，箱體，清洗槽，機械手，伺服系統，層流凈化，管路部分組成。清洗槽是由去離子水洗槽，有機溶劑槽，酸槽，或堿槽構成。管路部分為保證工作介質(zhì)的潔凈和避免雜質(zhì)析出，特采用進(jìn)口氣動(dòng)閥，PFA,PVDF,管道，全氟循環(huán)系統。除裝片和取片外，其余工藝均可自動(dòng)完成。電控部分：人機界面為觸摸屏，方便美觀(guān)。