使用范圍：        晶片，CMOS體基片，CMOS感應器，CCD外殼粉屑雜質(zhì)，CMOS芯片集成電路板，IGBT絕緣柵雙極性晶體管功率模塊，顆粒，蠟，玻璃假面，觸摸屏，彈夾，IR玻璃光片，鏡頭方面，VCM真空彈片以及零部件清潔用品等等。   特點(diǎn)： 1、可調可變的高速離心清洗系統 2、完全自動(dòng)的過(guò)程人機界面控制 3、不銹鋼機體密封結構 4、全系統儀表監測符合ISO工作 5、平衡的過(guò)程，以確保安全全程監控 6、非常大清洗箱可以提率 7、清洗后無(wú)二次污染 8、低噪音，無(wú)污染的潔凈設計 9、純凈水自動(dòng)加壓過(guò)濾機（水電阻率17MΩ) 10、濕度控制-減少操作變量 11、3級過(guò)濾系統清潔空氣過(guò)濾除去水分，油，顆粒等物質(zhì) 12、去離子風(fēng)機系統內置 13、可調節加熱板的干燥能力溫度較高設置80℃ 14、鋼化玻璃門(mén)材質(zhì) 15、可升級裝置超高的超聲波噴嘴功能，專(zhuān)為顆粒清洗 16、離心轉盤(pán)板可客制化