光學(xué)玻璃的清洗工藝
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半水基清洗是近年來(lái)逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝，它是在傳統溶劑清洗的基礎上進(jìn)行改進(jìn)而得來(lái)的。它有效地避免了溶劑的一些弱點(diǎn)，可以做到無(wú)害，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統；設備上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長(cháng)；在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑較為突出的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)就是對于研磨粉等無(wú)機污染物具有良好的清洗效果，非常大地緩解了后續單元水基清洗劑的清洗壓力，延長(cháng)了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。
它的缺點(diǎn)就是清洗的速度比溶劑稍慢，并且必須要進(jìn)行漂洗。
2、鍍膜前清洗
鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油（也稱(chēng)磨邊油，求芯也稱(chēng)定芯、取芯，指為了得到規定的半徑及芯精度而選用的工序）、手印、灰塵等。由于鍍膜工序對鏡片潔凈度的要求較為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時(shí)，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問(wèn)題。
鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式，分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學(xué)藥劑類(lèi)型如前所述。
3、鍍膜后清洗
一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗，其中接合前清洗（接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規定的形狀，以滿(mǎn)足無(wú)法一次加工成型的需求，或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序）要求較為嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求，其清洗方式與前面兩個(gè)清洗工藝相同。
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