4、高達到高平坦化研磨加工。

5、有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。

   納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）使用范圍：

1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。

2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過(guò)程，適用于大規模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。

3、用于晶圓的后道ＣＭＰ清洗等半導體器件的加工過(guò)程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統、光導攝像管等的加工過(guò)程。

4、廣泛用于CMP化學(xué)機械拋光，如：硅片、化合物晶體、準確光學(xué)器件、硬盤(pán)盤(pán)片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。
5、本產(chǎn)品可以作為一種添加劑，也可應用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。

指標：