科研實(shí)驗專(zhuān)用氮化鈦靶材TiN磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 產(chǎn)品介紹        氮化鈦（TiN）熔點(diǎn)：2950℃，密度：5.43-5.44g/cm³，莫氏硬度8-9，抗熱沖擊性好。其熔點(diǎn)比大多數過(guò)渡金屬氮化物的熔點(diǎn)高，而密度卻比大多數金屬氮化物低，因此是一種很有特色的耐熱材料。在高溫下不與鐵、鉻、鈣和鎂等金屬反應，TiN坩堝在CO與N2氣氛下也不與酸性渣和 堿性渣起作用，因此TiN坩堝是研究剛液與一些元素相互作用的優(yōu)良容器。TiN熔點(diǎn)高、硬度大、化學(xué)穩定性好、與金屬的潤濕小的結構材料、并具有較高的導電性和超導性，可應用于高溫結構材料和超導材料。 產(chǎn)品參數 中文名 氮化鈦     化學(xué)式 TiN 熔點(diǎn) 2950℃       密度 5.43g/cm3 純度 99.9%