1、設備名稱(chēng)：ATON 1600 真空磁控濺射鍍膜線(xiàn) 2、產(chǎn)地：美國應用材料公司 3、功能：該系統專(zhuān)門(mén)針對光伏太陽(yáng)能所需要的SIN層鍍膜設計，分為7個(gè)真空室：進(jìn)料室、緩沖室、傳輸過(guò)渡室、濺射室1+濺射室2、傳輸過(guò)渡室、緩沖室、出料室。系統整體設計嚴格，采用分子泵高真空機組，配備高濺射效率的平面靶或旋轉靶，采用直流濺射。 設備也可以應用在ITO膜、SIO2膜、金屬膜，應用于如太陽(yáng)能、LOW-E、LED等行業(yè)。 4、簡(jiǎn)要介紹： 4.1、主體結構：7組真空箱體，連續式 4.2、真空泵組：分子泵、高真空系統 4.3、濺射部分：4個(gè)陰極濺射 4.4、工件尺寸：1600*800較大尺寸 4.5、配套設施：外圍所需配套齊備 4.6、控制方式：全自動(dòng)過(guò)程及工藝控制   ew Roman"; mso-hansi-font-family:"Times New Roman">、控制方式：全自動(dòng)過(guò)程及工藝控制