多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……天源公司自主研發(fā)的真空濺射靶材、光學(xué)鍍膜材料廣泛應用于裝飾鍍膜、工具鍍膜、光學(xué)鍍膜及鍍膜玻璃工業(yè)與平板顯視行業(yè)。生產(chǎn)的濺射靶材成分設計合理、表面平整光滑，具有良好的導電性，濺射時(shí)工作電流穩定，高阻靶材的底板焊接牢固適用，采用該靶材制作的電阻器，具有阻值集中、穩定性好，有良好的耐熱、耐磨和抗氧化性能，電阻溫度系數小等特點(diǎn)。其靶材的制備都是根據其材料特性來(lái)加工的：分熱壓燒結工藝法和真空熔鑄工藝法，產(chǎn)品均具有純度高，微觀(guān)組織及利用率高等特點(diǎn)，靶型有：平面矩形，管形，圓盤(pán)形，環(huán)形，片狀，粉狀等，規格和成分還可以根據用戶(hù)的具體要求來(lái)定做。