EDI超純水設備又稱(chēng)電去離子設備，一般用于電子光學(xué)行業(yè)生產(chǎn)用水，如半導體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學(xué)鏡片清洗用水、各種高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規模集成電路等生產(chǎn)用水需求． 濱潤環(huán)保服務(wù)內容：   包括設備工藝設計、系統制造、安裝、現場(chǎng)安裝、系統試裝調整、設備保修、及售后服務(wù)等。 設計參考標準：     1）建設方提供的相關(guān)技術(shù)資料，技術(shù)說(shuō)明，及基本技術(shù)要求；     2）國家現行有關(guān)設計規范、施工及驗收規范、質(zhì)量評定標準；     3）反滲透系統設計依據美國；     4）ZBG98020-90《水處理設備系列型譜》；     5）電力裝置的繼電保護和自動(dòng)裝置設計規范(GB50062-1992)；     6) 工業(yè)與民用電力裝置的接地設計規范(GBJ65-1983)；     7）GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標準Ⅰ級≥18MΩ/CM （25℃）95％以上時(shí)間；