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      低輻射玻璃鍍膜設備中空玻璃鍍膜機Low-E玻璃鍍膜機

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      低輻射玻璃鍍膜設備中空玻璃low-e玻璃鍍膜機二手磁控濺射鍍膜機低輻射玻璃(Low-E)是在玻璃原片上采用真空磁控濺射方法鍍一層納米級的金屬銀、氧化物復合層而成,可以使玻璃的輻射率從0.84降至0.1甚至更低,輻射熱損減少90%,膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好,與普通鍍膜玻璃相比有較高的可見(jiàn)光透過(guò),更低的輻射,合成中空后,擁有所有玻璃種類(lèi)中***的U值,能使建筑物保持冬暖夏涼。設備特點(diǎn):環(huán)保設備、無(wú)任何有害氣體、廢水排放、不銹鋼腔體、堅固耐用、低溫易控常用靶材:鈦、鉻、不銹鋼、鎳、銅等電源類(lèi)型:直流磁控電源、中頻磁控電源、高壓離子轟擊電源工藝氣體:氬氣、氮氣、乙炔、氧氣極限真空:6.0×10-4pa壓升率:0.67pa/h抽氣系統:擴散泵/分子泵+羅茨泵+粗抽泵+維持泵控制系統:手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)

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