網(wǎng)上價(jià)格均為參考價(jià)，因市場(chǎng)原材料等因素價(jià)格有變化，詳情需聯(lián)系我，具體要以實(shí)際價(jià)格為準。 半導體指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。 半導體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類(lèi)。 半導體超純水設備制備工藝： 1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→準確過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(傳統工藝) 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm準確過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(新工藝) 3、預處理→反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm準確過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)(新工藝) 4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm準確過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)(新工藝) 5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn)殺菌器→準確過(guò)濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)(傳統工藝) 半導體生產(chǎn)用超純水設備工作原理： 超純水裝置供給原水進(jìn)入EDI系統，主要部分流入樹(shù)脂/膜內部，而另一部分沿膜板外側流動(dòng)，以洗去透出膜外的離子，樹(shù)脂截留水中的容存離子，被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動(dòng)，陽(yáng)離子向負極方向運動(dòng)，陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子膜，排出樹(shù)脂/膜之外，陰離子透過(guò)陰離子膜，排出樹(shù)脂/膜之外，濃縮了的離子從廢水流路中排出，無(wú)離子水從樹(shù)脂/膜內流出。 無(wú)錫匯泉是一家技術(shù)開(kāi)發(fā)、工程安裝、技術(shù)支持及服務(wù)于一體的企業(yè)。