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氧化鋅鋁靶材,azo靶材,AZO綁定靶材

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細

    尤特制備的AZO靶材,客供太陽(yáng)能光伏和low-e玻璃鍍膜用,AZO靶材能制備比例:98:2、99:1,化學(xué)式: AZO。    磁控濺射靶材廣泛應用于用于建筑/汽車(chē)玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著(zhù)國內靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展,國內已有靶材供應商、制造商的生產(chǎn)出來(lái)的靶材達到了進(jìn)口的水平。在廣州,尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(cháng)、最厚旋轉靶材的制造商,隨著(zhù)研發(fā)的持續投入,國內靶材行業(yè)的未來(lái)值得期待。     磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,具有設備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著(zhù)力強等優(yōu)點(diǎn)。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。 平面靶材主要產(chǎn)品目錄 Planar Target List 1. 鉻靶(Cr Target) 2. 硅靶(Si Target) 3. 鈦靶(Ti Target ) 4. 石墨靶(C Target) 5. 銀靶( Ag Target) 6. 銅靶( Cu Target)  7. 鈦鋁合金靶(TiAl Alloy Target)  8. 鎳鉻合金靶(NiCr Alloy Target)  9. 氧化鈦靶(TiOx Target)  10. 鉬鈮靶 (MoNb Target) 11. 鋁釹靶 (AlNd Target) 12. 氧化鈮靶 (NbOx Target) 13. 氧化鋅鋁靶 (AZO Target) 14. 氧化鋅靶 (i-ZnO Target ) 15. 鉬靶 (Mo Target)

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